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第331章 流片成功!

    ......

    第七天。

    凌晨两点零三分。

    帝都的夜很安静。

    中关村的路灯坏了两盏,没人修。

    地下室里,VAX-11的风扇嗡嗡地转。

    司徒渊敲下最后一个回车键。

    仿真程序运行了五十一分钟。

    屏幕上的代码,像瀑布一样狂泄。

    三个人谁都没坐。

    张秉谦站在屏幕左侧,老花镜推到了额头上,反而不戴了。

    林希站在右侧,双手插在裤兜里。

    司徒渊站在正中间,手搭在键盘边框上,指甲盖发白。

    瀑布停止。

    最后三行。

    全是悦目的纯绿色。

    `ISA BUS Timing: PASSED`

    `All Timing COnStraintS: MET`

    `TOtal ViOlatiOnS: 0`

    张秉谦摘下额头上的老花镜。

    他没喊,没笑。

    他把眼镜折好,小心翼翼地放进胸口的口袋里。

    然后他蹲了下去。

    蹲在冰凉的瓷砖地面上,双手捂住了脸。

    肩膀在抖。

    没有声音。

    林希转过头,不去看他。

    司徒渊也转过头。

    去看那台冰箱大小的机器。

    米白色的外壳上,DEC的标志在地下室的日光灯管下反着光。

    他盯着那个标志看了几秒。

    然后伸出手,轻轻地拍了拍机箱外壳。

    “谢了。”他用英语说。

    声音很轻。

    直播间安静了整整八秒。

    然后弹幕像潮水一样涌上来。

    【零违规!!!全部通过!!!】

    【七天!三个人干了别人一个团队半年的活!】

    【张工那双膝盖上的白印到底磨掉了几层皮啊】

    【不说了,眼睛进沙子了】

    ......

    从中关村的地下室,到津门二厂的轰鸣。

    短短几天,犹如跨越了一个时代。

    七月一号。

    津门无线电二厂。

    硅基产线全速开动。

    这是GK-3光刻机浴火重生后的第一次实弹操演。

    陈默亲自操机,手指搭在对焦旋钮上,眼睛贴着目镜。

    光栅尺的数字跳动,伺服电机精准补偿每一个微米的误差。

    曝光。

    显影。

    硅片上的线条清晰锐利,边缘笔直。

    刻蚀环节,BOE槽液控温稳定在三十五度。

    第一批硅片过检,沟槽完美。

    陈默回头冲林希竖了个大拇指。

    直到离子注入。

    长安771所支援的国产离子注入机是十年前的老型号。

    苏佩兰和王铁山两个老师傅在机器旁边守了一天一夜,反复调整参数。

    打出来的硅片,送到显微镜下一看。

    掺杂深度分布不均匀。

    有的区域深了,有的区域浅了。

    像一块没发好的面,有些地方鼓着,有些地方瘪着。

    直接后果:芯片漏电。

    测试探针扎下去,电流一路跑偏,根本锁不住。

    苏佩兰试了七组参数,全部失败。

    “机器太老了。”

    她摘下防尘面罩,额头上全是汗。

    “束流不稳,真空也拉不到位。”

    车间里的气氛沉下去了。

    光刻过了,刻蚀过了,偏偏倒在了最基础的掺杂上。

    林希站在注入机旁边,手扶着冰凉的金属外壳。

    他闭上眼睛。

    脑海中,直播间的弹幕已经开始翻涌。

    【离子注入!关键参数来了!!!】

    【我查了771所这批机器的资料——核心问题是束流电流太低导致注入时间过长,硅片在真空腔里受热不均匀!】

    【解法很简单但很反直觉——把束流电流提上去!10mA!加速电压拉到50keV!让注入时间缩短,减少热积累!】

    【最关键的一步:真空度!必须拉到10的负5次方帕斯卡!不然残余气体会和离子束发生散射,杂质分布肯定不均匀!】

    【对!这台老机器的分子泵其实能达到这个真空度,但出厂预设太保守了,得手动调旁通阀把抽速拉满!】

    林希睁开眼。

    “苏师傅。”

    苏佩兰回头。

    “束流电流调到10毫安。”

    “加速电压拉到50千电子伏特。”

    苏佩兰愣了一下。

    “电流10毫安?”

    “这台机器设计上限才8……”

    “旁通阀全开,把真空度拉到10的负5次方帕。”

    林希的声音很稳,

    “抽速够了以后,束流不会散。”

    苏佩兰看了看旁边的王铁山。

    王铁山沉默了几秒,走到机器后面。

    蹲下去看了看分子泵的参数铭牌。

    “能拉到。”

    他直起腰,

    “负5次方没问题,就是没人敢这么用。”

    “那就用。”林希说。

    王铁山没再犹豫。

    他抱着扳手绕到机器背面,拧开旁通阀。

    苏佩兰深吸一口气,坐回操作台。

    束流电流:10mA。

    加速电压:50keV。

    真空度读数开始往下掉。

    10的负3次方。

    负4次方。

    分子泵的声音变得尖锐。

    负5次方。

    稳住了。

    “注入。”林希说。

    苏佩兰按下启动键。

    机器轰鸣声骤然变调,像一头沉睡的野兽被唤醒。

    离子束击中硅片表面。

    六十秒。

    一百二十秒。

    注入结束。

    苏佩兰取出硅片,双手端着,走到显微镜前。

    车间里所有人的呼吸都停了。

    她把硅片放上载物台,调焦。

    看了三秒。

    又调了一下倍率。

    再看了五秒。

    她抬起头。

    嘴唇哆嗦了两下。

    “均匀的。”

    她的声音带着哭腔。

    “深度完全一致。”

    王铁山冲过去,把她从椅子上挤开,自己趴到目镜上看。

    看完,他直起腰,一屁股坐在了地上。

    “成了。”

    两个字。

    直播间弹幕彻底爆炸。

    【流片成功!!!华国硅基芯片流片成功了!!!】

    【1983年!自主光刻机+自主离子注入!流片流程打通!】

    【这帮老师傅是真的牛,参数给到位了,手上的活一点不含糊】

    【哭了哭了,跪在地上画版图,趴在机器前调参数,这就是华国芯片的第一步】

    林希站在车间中央。

    周围是沸腾的欢呼声。

    林希转头看向窗外。

    七月底的津门,太阳正落。

    晚霞把整个二厂的厂房染成暗红色。

    司徒渊不知道什么时候走到他旁边。

    两人并排站着,看着窗外。

    “林总。”司徒渊开口。

    “嗯。”

    “流片成功了,但这只是工程样片。”

    司徒渊推了推眼镜。

    “量产之前,还差最后一步,”

    “封装,测试。”
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